儀器名稱：環(huán)境掃描電子顯微鏡

儀器型號：Quanta200

生產(chǎn)廠家：FEI有限公司

主要技術(shù)指標(biāo)：
1.分 辨 率：
高真空模式下30KV時，3.5nm；低真空模式下30KV時，3.5nm；ESEM環(huán)境真空模式下30KV時，3.5nm；低真空模式下3KV時，15nm；
2.放大倍數(shù)：7×~1000000×
3.加速電壓：200V—30KV
4.燈 絲：鎢燈絲
5.最大束流：2μA

性能特點(diǎn):

1.分辨率高，可達(dá)到3.5nm；

2.放大倍數(shù)大且放大倍數(shù)變化范圍廣，從X7-100萬倍連續(xù)可調(diào)；

3.圖象立體感強(qiáng)；

4.樣品制備簡單。

功能:

       第一個功能是可觀測物質(zhì)的微區(qū)形貌和微觀結(jié)構(gòu)，可觀測導(dǎo)電的、干燥的固體樣品，同時還可以觀察非導(dǎo)電的、干燥的固體樣品和非導(dǎo)電的、含一點(diǎn)點(diǎn)水、少量油及放氣的固體樣品；

      第二個功能是利用能譜儀，可以分析物質(zhì)的微區(qū)成分，在樣品表面可進(jìn)行元素或氧化物的定性和定量分析，同時，在樣品表面還可以進(jìn)行元素的線、面分析；

      第三個功能是利用電子背散射衍射儀，可以對所有11種勞厄群的晶體進(jìn)行衍射花樣的分析和標(biāo)定；能對所有晶體結(jié)構(gòu)的物相進(jìn)行鑒定；能對不同的晶粒進(jìn)行取向分析（顯微織構(gòu)分析）；能進(jìn)行晶粒統(tǒng)計測量；晶粒之間取向錯配度測量；晶界狀態(tài)測量；能進(jìn)行三維顯示的取向分布函數(shù)圖、極圖及反極圖的繪制。

主要應(yīng)用范圍：

      廣泛應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、金屬材料、無機(jī)非金屬材料、冶金、生物、汽車、醫(yī)學(xué)、公安等研究領(lǐng)域，特別是在我們的地質(zhì)學(xué)領(lǐng)域得到了更加廣泛的應(yīng)用（如礦物學(xué)、巖石學(xué)、古生物學(xué)、礦床學(xué)、構(gòu)造地質(zhì)學(xué)、石油地質(zhì)學(xué)、環(huán)境地質(zhì)學(xué)、工程地質(zhì)學(xué)、材料科學(xué)、應(yīng)用化學(xué)及分析化學(xué)等）。